一、扶持领域和对象

该项目扶持领域和对象为无锡市区范围内的集成电路设计类企业，但不限于相关资质。

政策中规定的“产品”是指经过掩模板（FullMask或者MPW）流片，达到设计要求后，可以提供给集成电路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的非量产用芯片产品。

政策中规定的“首轮流片”是指设计企业就本“产品”，**与制造企业签订流片合同，利用其生产线流片的过程。

原则上，单个产品首轮流片用8英寸（含）以下wafer数量不超过15片，12英寸wafer数量不超过10片。

二、申报条件

掩模、流片开票日期为上一个自然年，支持同一平台（即同一掩模、流片厂商）上的多个产品、多张发票；除分立器件、传感器和光电子类产品外，其它产品线宽须小于0.25μm（含）。线宽小于45nm（含）的产品与线宽大于45nm的产品不得合并申报；项目总投入不低于80万元。

三、扶持标准

对集成电路设计企业开展的拥有自主知识产权、工艺制程达到一定节点的产品工程流片（含MPW）项目，按不超过该款产品首轮流片（含掩模制版，不含IP购置。）费用的50%给予支持。普通产品支持总额*高300万元，工艺制程达到45nm及以下的产品支持总额*高600万元。

———————————————————————————————————————————————————

想要了解更多详情，请查看苏州智为铭略企业管理有限公司网站http：//www.key-way.com，智为铭略提供免费高新技术企业申报和企业补贴政策申请评估报告，关注智为铭略获得更多优惠政策。

智为铭略核心产品与服务：软件著作权登记、商标注册、研发费用加计扣除、江苏省科技成果转化专项资金、江苏省新产品新技术鉴定、知识产权贯标、软件产品登记、软件企业认定及高新技术企业认定等。